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Institut für Energie- und Klimaforschung

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Cluster-Depositionsanlage (CT2)

Ein zentraler Ansatz zur Wirkungsgradsteigerung von Dünnschicht-Solarzellen über die 13% Marke hinweg liegt in der Realisierung von triple-junction-Solarzellen u.a. mit neuartigen spektral selektiven Zwischenreflektoren. Wir gehen davon aus, dass es für einen angestrebten Sprung im Wirkungsgrad der Integration von Photonenmanagement-Konzepten, einer kontrollierten Grenzflächenbehandlung, der Zusammenführung von optimierten Prozessbedingungen für die Silizium- und Siliziumlegierungs-Absorberschichten und der Entwicklung von Passivierungsschichten bedarf. Ein Teil dieser Entwicklungen ist an Institut bereits sehr erfolgreich in verschiedenen separaten Depositionsanlagen durchgeführt worden. Um Mehrfachstapel-Solarzellen mit diesen neuartigen Ansätzen realisieren zu können und damit die Basis der Dünnschicht Si-Solarzelle von morgen zu legen, wurde eine Mehrkammer-Clustertool-Anlage aufgebaut, bei der Sputter-, Hot-wire und PECVD-Prozesse integriert werden, ohne dass der Herstellungsprozess durch Probentransfer unter atmosphärischen Bedingungen unterbrochen werden muss. Die Integration der entwickelten innovativen Einzelprozesse und Materialien in einer komplexen Anlage, ist geeignet, den Entwicklungsvorsprung des Instituts im Bereich der Si Dünnschichtsolarzellenforschung für die Zukunft zu sichern.

CT2

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