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Peter Grünberg Institut
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Wafer-Reinugungsanlage

Die Raider Plattform der Firma Semitool ist ein automatisches Einzelwafer-Reinigungsinstrument welches 200 und 300mm Wafer verarbeiten kann. Das Gerät besitzt 4 Reaktoren, 2 Reaktoren für jede Wafergröße. Die Maschine ist für 2 Hauptanwendungen ausgelegt.

Pre epi Reinigung
Dieser Prozess wird für die Oberflächenbehandlung vor dem epitaxialen Wachstum von auf Silizium basierten Materialien benutzt. Ziel des Prozesses ist die Herstellung einer hydrophoben Oberfläche, welche frei von Wassermarken ist. Um das Ziel zu erreichen, wird das natürliche Oxid auf der Waferoberfläche vollständig mit flüssiger oder gasförmiger Flußsäure zurückgeätzt.

Pre high-k Reinigung
Nach der vollständigen Entfernung des natürlichen Siliziumoxids mit verdünnter HF, wird ein neues, chemisches SiO2 mit Ozon gewachsen. Dieser Oxidationsprozess ist selbstlimitierend und führt zu einer Oxidschichtdicke von etwa 1nm. Durch Zurückätzen des neu aufgebauten SiO2 ist es möglich, ultradünne SiO2 Schichten mit einer Dicke von 0,5nm zu produzieren.

Semitool von vorne


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