Nanocluster (HNF)

Wir begannen 2013 den Neuaufbau des Nanoclusters mit dem Ziel, eine vielseitige Anlage für die Abscheidung, Kombination und Analyse unterschiedlicher Materialsysteme zu bauen, und erweiterten diesen im Laufe der Zeit. Zehn Jahre später ist der Nanocluster einer der größten Depositions-Anlagen-Cluster der Welt, welcher insgesamt 17 miteinander verbundene Vakuumanlagen – darunter diverse Kammern für die Molekularstrahlepitaxie (MBE), Atomlagenabscheidung (ALD) und Sputteranlagen – umfasst. Der Nanocluster ermöglicht die Herstellung einzigartiger Kombinationen einer breiten Palette von Materialsystemen, angefangen mit III-V- und II-VI-Halbleitern, Metallen und Supraleitern, über Phasenwechselmaterialien und Oxide bis hin zu topologischen Isolatoren. Zum Beispiel arbeiten wir an Core/Shell Nanodrähte, topologische und supraleitende Quanten-Bauelemente, in-situ FET devices.
Darüber hinaus ermöglichte unser Konzept, die Verwendung von Ultrahochvakuum-Transfers zur Verbindung der einzelnen Depositions-Kammern, die Installation mehrerer in-situ Techniken zur Materialcharakterisierung. Hierbei sind insbesondere ein Rasterelektronenmikroskop (SEM) mit integriertem fokussiertem Ionenstrahl (FIB), sowie ein Rastertunnelmikroskops (STM) hervorzuheben.

TLE

Letzte Änderung: 25.10.2023