Elektronische Eigenschaften von Grenzflächen und Oberflächen

Unsere Arbeitsgruppe untersucht elektronische und magnetische Eigenschaften an Oberflächen und Grenzflächen mit einem korrelativen Ansatz. Wir nutzen fortschrittliche Methoden wie Off-Axis-Elektronenholographie im TEM, Rastertunnelmikroskopie und -spektroskopie, Rasterkraftmikroskopie sowie Simulationen der Tunnelspektroskopie und elektronen-optischer Phasenkarten. Unser Fokus liegt auf Polarisationsänderungen in Nitrid-Halbleiter-Heterogrenzflächen, Oxiden und metallorganischen Halid-Perowskiten unter Betriebsbedingungen.

Unsere Forschungsthemen:

- Kartierung elektronischer und magnetischer Eigenschaften an Oberflächen und Grenzflächen

- Charakterisierung von Polarisationsänderungen an Heteroübergängen von Nitridhalbleitern

- Untersuchung von metallorganischen Halogenidperowskiten unter Betriebsbedingungen

- Simulation von Tunnelspektren unter Nichtgleichgewichtsbedingungen

- Physik von Punktdefekten und damit zusammenhängenden In-Gap-Zuständen in III-V-Halbleitern

- Quantitative Messung und Verständnis der Oberflächen-Fermi-Niveau-Pinning

- Elektrische und strukturelle Charakterisierung von ternären III-V-Nanodrähten

- FIB-induzierte Kohlenstoffimplantation an Nitridhalbleiteroberflächen und ihre Auswirkungen auf die Pinning-Niveaus

Kontakt

Ausgewählte Publikationen

Letzte Änderung: 12.12.2025